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植物育成促進装置および植物栽培方法
专利权人:
東京瓦斯株式会社;国立大学法人広島大学
发明人:
藤峰 智也,荒木 敏成,碇 真里耶,高橋 美佐
申请号:
JP20150202016
公开号:
JP2017073987(A)
申请日:
2015.10.13
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】低コストで窒素酸化物を供給する植物育成促進装置を提供する。【解決手段】植物の育成を促進する植物育成促進装置100は、植物12の栽培地(温室10)に設けられ、空気中で放電させる1または複数の放電部112と、放電部112を制御して、栽培地の雰囲気中の窒素酸化物の濃度を目標値に維持する放電制御部130と、を備える。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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