CHO, GEUN DO,조근도,LEE, DOUG YOUN,이덕연,LEE, WON SIK,이원식
申请号：
KR1020110013582
公开号：
KR1020120094226A
申请日:
2011.02.16
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要：
PURPOSE: A composition for generating chlorine dioxide using hydrogel is provided to obtain chlorine dioxide with superior sterilizing force and deodorizing force.CONSTITUTION: A composition for generating chlorine dioxide includes hydrogen loading sodium chlorite and hydrogen loading organic acid. The hydrogel is a polymer composed of methyl methacrylate(MMA), 2-hydroxyethyl methacrylate(HEMA), or the combination of the same. The hydrogel loading sodium chlorite is the polymer composed of MMA and HEMA at the weight ratio of 0.8:1.2. The hydrogel loading organic acid is the polymer based on MMA. The organic acid is citric acid.COPYRIGHT KIPO 2012본 발명은 하이드로겔을 이용한 이산화염소 생성용 조성물에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 아염소산나트륨을 탑재한 하이드로겔 및 유기산을 탑재한 하이드로겔을 포함하는 이산화염소 생성용 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 기존의 아염소산나트륨과 염산을 이용하여 이산화염소를 생성시키는 방법들과는 달리, 이산화염소의 생성 반응에 아염소산나트륨과 유기산을 사용하고 이들을 각각 하이드로겔에 탑재시킴으로써 낮은 농도의 이산화염소를 안정적이고 지속적으로 생성할 수 있는 효과를 나타낸다.
