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インプラント構造体
专利权人:
MATSUMOTO SHIKA UNIV
发明人:
YAGAMI KIMITOSHI,八上 公利,SEKI YASUO,関 康夫,YOSHINO KAZUTAKA,吉野 和卓
申请号:
JP2011226008
公开号:
JP2013085577A
申请日:
2011.10.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an implant structure which is unlikely to cause the induction of substances that encourage bacteria growth.SOLUTION: The implant structure has a distal end section 21 and a proximal end section 22, and includes an artificial tooth root 4 that includes: an artificial tooth root body 2 having screw threads T formed at least on the distal end section 21 side thereof and an inducing part 3 for inducing soft tissue, and positioned around the outer periphery of the artificial tooth root body 2 in the proximal end section 22. The implant structure further includes an abutment 5 which is attached to the artificial tooth root 4, and which is provided, on the abutment proximal end 5P side thereof, with a covering section 51 for covering the entire surface of the inducing part 3 on the proximal end section side thereof. The implant structure is characterized in that the abutment 5 is provided with a stepped section 52 along the outer periphery on the distal end 5D side of the abutment 5 in relation to the covering section 51.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】細菌繁殖を助長する物質が誘導され難いインプラント構造体を提供することを目的とする。【解決手段】先端部21及び基端部22を有し、少なくとも先端部21側にネジTが形成された人工歯根本体2と、人工歯根本体2の基端部22における外周に設けられ、軟組織を誘導する誘導部3とを含む人工歯根4と、人工歯根4に取り付けられ、誘導部3の基端部22側の全面を覆う覆設部51を支台基端5P側に有する支台5とを備え、支台5は、覆設部51より支台5の先端5D側に、外周に沿って、段差部52が設けられたことを特徴とする。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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