A system (100) for determining a treatment plan in active ion beam treatment, to minimize unwanted dose, while maintaining or improving target dose coverage, whereby a beam is split into at least two sub-beams and where each sub-beam has a range shifter of different settings.La présente invention concerne un système (100) destiné à déterminer un plan de traitement dans un traitement par faisceau d'ions actifs, dans le but de réduire au minimum une dose indésirable, tout en maintenant ou en améliorant la couverture de la dose cible, un faisceau étant divisé en au moins deux sous-faisceaux et chaque sous-faisceau ayant un dispositif de décalage de plage de réglages différents.
