降解地膜
- 专利权人:
- 杭州扬中科技有限公司
- 发明人:
- 丰二中
- 申请号：
- CN201520643082.1
- 公开号：
- CN204907370U
- 申请日:
- 2015.08.24
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开了一种降解地膜，旨在提供一种降解全面且降解速率高，环保的降解地膜，解决了地膜降解后不能有效的提高土壤质量，对植物的生长不能起到一个促进的作用的问题，其技术方案要点是全降解薄膜，所述全降解薄膜层的厚度为0.01-0.015mm，所述全降解薄膜上复合有菌肥层，所述菌肥层的厚度为0.008-0.01mm，所述菌肥层成条形间隔分布，所述条形的菌肥层的间隔距离为30-50cm，达到了降解后提高土壤肥力的效果，本实用新型适用于降解地膜技术领域。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
