化粧下地

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专利权人:

花王株式会社

发明人:

渡邉 美香子,山本 隆斉

申请号：

JP2007205180

公开号：

JP5128201B2

申请日:

2007.08.07

申请国别(地区):

JP

年份:

2013

代理人:

摘要：

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a makeup base improving uneven application of a foundation without any film feeling.SOLUTION: The makeup base comprises following ingredients (A) and (B): (A) a silicone-based polymer having rubber elasticity and (B) a silicone oil having 350-30,000 mm2/s viscosity at 25°C.COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT【課題】ファンデーションのよれが改善され、皮膜感のない化粧下地を提供すること。【解決手段】下記成分(A)及び(B):(A)ゴム弾性を有するシリコーン系ポリマー、(B)25℃における粘度が350~30,000mm2/sであるシリコーン油を含有する化粧下地。【選択図】なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/