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光源制御装置、光源制御方法、プログラム、および手術用システム
专利权人:
SONY CORP
发明人:
YAMAGUCHI KENTA,山口 健太,SHIRAKI JUICHI,白木 寿一,ICHIKI HIROSHI,一木 洋,SUGIE TAKEO,杉江 雄生
申请号:
JP2015199670
公开号:
JP2017070523A
申请日:
2015.10.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To observe in a further optimal exposure state.SOLUTION: A light source control device includes: a reflection direction estimation part for estimating a reflection direction in which irradiation light reflects on a surface of a subject and a control part for controlling the direction of the light source for applying the irradiation light on the basis of the estimated reflection direction of the irradiation light. The control part performs control on the basis of the reflection direction so as to uniformize illuminance when viewing the subject in a direction of observation or suppress specular reflection in the direction of observing the subject. This technique can be applied to, for example, a surgical system for use in endoscopic surgery.SELECTED DRAWING: Figure 8COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】より適切な露出状態で観察する。【解決手段】光源制御装置は、被写体の表面で照射光が反射する反射方向を推定する反射方向推定部と、推定された照射光の反射方向に基づいて、照射光を照射する光源の向きを制御する制御部とを備える。そして、制御部は、反射方向に基づいて、被写体を観察する方向から見た照度が均一になるように、または、被写体を観察する方向への鏡面反射が抑制されるように、制御を行う。本技術は、例えば、内視鏡下手術に用いられる手術用システムに適用できる。【選択図】図8
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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