大棚高畦全地膜覆盖提高水果黄瓜抗性和产量的栽培方法
- 专利权人:
- 上海市农业科学院;上海科园种子有限公司
- 发明人:
- 丁小涛,余纪柱,金海军,张红梅
- 申请号：
- CN201210420688.X
- 公开号：
- CN103782737A
- 申请日:
- 2012.10.29
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明为一种提高设施水果黄瓜抗性和产量的栽培方法，其特征在于：所述的水果黄瓜在设施大棚条件下生长，通过高畦全地面黑地膜覆盖方法实现的。通过高畦整地(畦底面1.1m，顶面0.7m，高0.3m)，整个大棚全地面黑地膜覆盖栽培，得到生长势强，抗病好，产量明显提高的水果黄瓜植株，同时可以明显节约田间用水；所用黄瓜材料为上海市农业科学院设施园艺研究所提供；通过高畦全地面黑地膜覆盖的手段明显提高了设施水果黄瓜抗性和产量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
