Patent of invention implants and methods of spacer interespinhal minimanente invasive process. A spacer process interespinhal for implantation in a space between a process interespinhal upper and lower spinous process through a includes a balloon like body, a first protrusion and a second protrusion implantable implantable.The body has a distal end, a proximal end and a longitudinal axis extending between the proximal and distal ends. The spacer is capable of being disposed in an expanded configuration and an expanded configuration . The first protrusion is mounted near the implantable proximal end and the second protrusion is mounted next to an implantable distal end.The first and second protrus\u00f5es are oriented generally parallel to the implantable in the expanded configuration not longitudinal axis and generally perpendicular to the longitudinal axis in the expanded configuration.patente de invenção implantes e métodos de espaçador de processo interespinhal minimanente invasivo. um espaçador de processo interespinhal para implantação em um espaço interespinhal entre um processo espinhoso superior e um processo espinhoso inferior inclui um corpo tipo balão, uma primeira protusão implantável e uma segunda protusão implantável. o corpo tem uma extremidade distal, uma extremidade proximal e um eixo longitudinal que se estende entre as extremidades proximal e distal. o espaçador é capaz de ser disposto em uma configuração não expandida e uma configuração expandida. a primeira protusão implantável é montada próximo à extremidade proximal e a segunda protusão implantável é montada próximo à extremidade distal. a primeira e a segunda protrusões implantáveis são orientadas geralmente paralelas ao eixo longitudinal na configuração não expandida e geralmente perpendiculares ao eixo longitudinal na configuração expandida.
