一种在涝渍地进行国槐下套种多层植物的方法
- 专利权人:
- 吕克
- 发明人:
- 吕克
- 申请号：
- CN201710247170.3
- 公开号：
- CN107047186A
- 申请日:
- 2017.04.17
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 李杰
- 摘要：
- 本发明公开了一种在涝渍地进行国槐下套种多层植物的方法，包括以下步骤：a.对涝渍地进行窄畦、深沟改造，畦宽60~80cm，畦面到沟底的距离大于50cm，沟宽45~50cm；b.将3‑4年苗龄的国槐移栽定植在畦上，行间距120~150cm，株间距180~220cm；c.在一列的每两株国槐之间栽植一株高度100cm以下的红叶石楠；d.在每畦的国槐与红叶石楠两侧高处栽植大豆。本发明的窄畦、深沟改造改善涝渍地的排水条件，降低土壤含水量，具备了植物生长的条件；国槐、红叶石楠和大豆套种，既能降低病虫害，又能相互促进生长，还能产生良好的经济效益，对涝渍地进行有效地利用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
