The invention relates to an apparatus (1) comprising at least a first flow channel (5), and a liquid space (3) for liquid. The apparatus 1 further comprises a second flow channel 7 arranged to be in flow communication with the liquid space 3 and a vapor space 4 configured to receive vapor formed in the liquid space 3 do. The first flow channel (5) is arranged to be in flow communication with the vapor space (4). The device 1 also comprises means 8 for transferring the gas flow from the exterior of the device 1 to the liquid space 3 via the second flow channel 7, To the outside of the device (1) through the first flow channel (5). The invention also relates to a method in the device (1). In this way, the gas flow to the device 1 is transferred to the liquid space 3 through the second flow channel 7. A resistance is induced in the flow of the exhaust gas flowing through the second flow channel 7, and the pressure in the liquid space 3 is increased. As a result of the pressure increase, the vapor produced in the liquid space 3 is received in the vapor space 4. [ The gas flow is transferred from the vapor space (4) through the first flow channel (5) to the outside of the device (1).본 발명은 제1 유동 채널(5), 및 액체를 위한 액체 공간(3)을 적어도 포함하는 장치(1)에 관한 것이다. 상기 장치(1)는, 상기 액체 공간(3)과 유동 연결되도록 배치된 제2 유동 채널(7)과, 상기 액체 공간(3) 안에서 형성되는 증기를 수용하도록 구성된 증기 공간(4)을 더 포함한다. 상기 제1 유동 채널(5)은 증기 공간(4)과 유동 연결되도록 배치된다. 또한 상기 장치(1)는, 가스 유동을 상기 장치(1)의 외부로부터 제2 유동 채널(7)을 통하여 액체 공간(3)으로 이송하기 위한 수단(8)과, 가스 유동을 증기 공간(4)으로부터 제1 유동 채널(5)을 통하여 장치(1)의 외부로 이송하기 위한 수단(6)을 포함한다. 또한, 본 발명은 상기 장치(1)에서의 방법에 관련된 것이기도 하다. 상기 방법에서는, 상기 장치(1)로의 가스 유동이 제2 유동 채널(7)을 통해서 액체 공간(3)으로 이송된다. 상기 제2 유동 채널(7)을 통해 유동하는 배출 가스 유동에는 저항이 유도되고, 상기 액체 공간(3) 안에서는 압력이 증가된다. 상기 압력 증가의 결과로서, 상기 액체 공간(3) 안에서 생성된 증기가 증기 공간(4) 안에 수용된다. 가스 유동은 상기 증기 공간(4)으로부터 제1 유동 채널(5)을 통하여 상기 장치(1)의 외부로 이송된다.
