用于光化学辅助治疗的膏剂及其制备方法和用途
- 专利权人:
- 金新
- 发明人:
- 金新
- 申请号：
- CN201610388091.X
- 公开号：
- CN105963698A
- 申请日:
- 2016.05.29
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种医用膏剂，具体的说涉及一种用于光化学辅助治疗的膏剂及其制备方法和用途，所述膏剂由下列重量份的组分加工而成：卡波姆5‑8份，甘油4‑8份，对羟基苯甲酸乙酯12‑16份，5‑氨基酮戊酸甲酯1‑10份，药用香精1‑3份，膏剂基质20‑40份。本发明的有益效果是：用于光化学辅助治疗，治疗效果好，痤疮和尖锐湿疣患者用该膏剂辅助治疗后，复发率极低。本发明的膏剂的制备方法，该制备方法加工效率高、产品质量稳定，可控性好，成本低。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
