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Gas cleaning device for cabinet device
专利权人:
Vorwerk & Co. Interholding GmbH
发明人:
Robert Frielinghaus,Georg Hackert
申请号:
DE102018100226
公开号:
DE102018100226A1
申请日:
2018.01.08
申请国别(地区):
DE
年份:
2019
代理人:
摘要:
Die Anmeldung betrifft ein tragbares Gasreinigungsgerät (100, 200, 300) für eine Anordnung in einem Innenraum (104) einer Schrankvorrichtung (102), insbesondere eines Kühlschranks (102), zur Beseitigung von Nanopartikeln aus dem in dem Innenraum (104) befindlichen Gasgemisch, umfassend mindestens ein Gehäuse (118, 218, 318) mit mindestens einem von einem Gaseinlass (112, 212, 312) zu einem Gasauslass (114, 214, 314) verlaufenden Gaskanal (116, 216, 316), und mindestens eine in dem Gaskanal (116, 216, 316) angeordnete Gasreinigungseinrichtung (110, 210, 310), wobei die Gasreinigungseinrichtung (110, 210, 310) mindestens eine Plasmabehandlungsanordnung (230, 330) umfasst, eingerichtet zum Behandeln des durch die Gasreinigungseinrichtung (110, 210, 310) strömenden Gasgemisches mit einem Plasma, wobei die Gasreinigungseinrichtung (110, 210, 310) zum Abgeben eines im Wesentlichen ozonfreien Gasgemisches eingerichtet ist, und das Gehäuse (118, 218, 318) ein während des Betriebs des tragbaren Gasreinigungsgeräts (100, 200, 300) kabellos betreibbares Energieversorgungsmodul (126, 226, 326) umfasst, eingerichtet zumindest zum Versorgen der Plasmabehandlungsanordnung (230, 330) mit elektrischer Energie.The application relates to a portable gas cleaning device (100, 200, 300) for an arrangement in an interior space (104) of a cabinet device (102), in particular a refrigerator (102), for removing nanoparticles from the gas mixture in the interior space (104), comprising at least one housing (118, 218, 318) having at least one gas passage (116, 216, 316) extending from a gas inlet (112, 212, 312) to a gas outlet (114, 214, 314), and at least one in the gas passage (116, 216, 316) arranged gas cleaning means (110, 210, 310), wherein the gas cleaning means (110, 210, 310) at least one plasma treatment assembly (230, 330) adapted for treating by the gas cleaning means (110, 210, 310 ) gas mixture with a plasma, wherein the gas cleaning device (110, 210, 310) is arranged for dischar
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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