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高周波制御ユニット及び高周波処置システム
专利权人:
オリンパス株式会社
发明人:
高見 禎嘉,林田 剛史
申请号:
JP2016522070
公开号:
JPWO2016076365A1
申请日:
2015.11.11
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
The high-frequency control unit includes an integrated value calculation unit that calculates an actually measured integrated value which is an actual measurement value of the integrated value from the output start time of the outputted high-frequency power over time. Wherein the high frequency control unit includes: a target locus setting unit that sets a target locus indicating a target integral value that is a target value of the integrated value from the output start time of the output high frequency power from the output And a control unit that compares the actually measured integrated value with time and controls the output state of the high frequency power over time based on the comparison result.高周波制御ユニットは、出力された高周波電力の出力開始時からの積算値の実測値である実測積算値を経時的に算出する積算値算出部を備える。前記高周波制御ユニットは、出力された前記高周波電力の前記出力開始時からの前記積算値の目標値である目標積算値を経時的に示す目標軌跡を設定する目標軌跡設定部と、前記目標軌跡に対して前記実測積算値を経時的に比較し、比較結果に基づいて、前記高周波電力の出力状態を経時的に制御する制御部と、を備える。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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